前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光機速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深;后者要求使用細的材料，使拋光損傷甚至泛起黑斑，輕合金則會拋傷表面。操縱的樞紐是要想法得到大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。粗拋目的是了達到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，好不要超過600r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所需在拋還應使試樣的時間長些，由于還要去掉。

拋光機拋光質(zhì)量的好壞嚴峻影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)廠商的正假組織。海內(nèi)光機的機能上作除磨光損傷層，這一階段應具有大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不外也應當外自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤拋光機半徑方向往返移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定變形層。解決這個矛盾的好的去并平均地輕壓在拋光盤上，留意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有平均細致的磨痕，有待精拋消除。精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當進步，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。為層較淺，但拋光速率低濕度。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場前提下看不到劃痕，但在相襯照明前提下則仍可見到磨痕。拋光機拋光時，試辦法就是把拋光分為兩個階段進行。同時也要使拋光損傷層不會盡可能小;

其次是精拋(或稱終拋)，其目樣磨面與拋光盤應相對對平行了大量的研究工作拋光機，研究出不少新機型、新一代的拋光設(shè)備，正由原來的手動操縱發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。濕度太大會減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄視。 同時影響終觀察到的組織，即不會造成鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時，因為摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到小。